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真空泵廠家分析真空壓力控制系統(tǒng)如何優(yōu)化。芯片的刻蝕工藝通常要在一個(gè)受控的真空環(huán)境下工作，反應(yīng)腔的功能是在真空環(huán)境中保持工藝參數(shù)需要的壓力，去除不需要的水汽、空氣和附加反應(yīng)物；創(chuàng)建一個(gè)能夠使等離子體發(fā)生反應(yīng)的真空環(huán)境。為了降低刻蝕機(jī)真空壓力控制系統(tǒng)的成本，實(shí)現(xiàn)高真空獲得設(shè)備的清潔化、簡(jiǎn)單化和微型化，同時(shí)為了提高真空系統(tǒng)的抽氣速率和極限真空，系統(tǒng)中的腔、真空泵以及連接管路和閥門的選配是很重要的。

刻蝕機(jī)為了保證刻蝕工藝需要的穩(wěn)定工作壓力，大抽速真空系統(tǒng)是必不可少的組成部分。普諾克真空泵廠家詳細(xì)地介紹反應(yīng)腔、真空泵的選擇、真空閥門的選配、真空計(jì)和真空檢測(cè)開關(guān)、真空計(jì)和真空檢測(cè)開關(guān)和連接管路。

真空泵廠家分析真空壓力控制系統(tǒng)如何優(yōu)化？要從以下五個(gè)方面展開：

⑴反應(yīng)腔

反應(yīng)腔是真空系統(tǒng)的基本部件，不同刻蝕的反應(yīng)腔形狀和大小不同，但都屬于受負(fù)壓的容器。為了增加芯片產(chǎn)能的需要反應(yīng)腔采用的是多工位設(shè)計(jì)，這就需要真空泵的抽速滿足其要求。多工位設(shè)計(jì)要保證多個(gè)工位芯片的均勻性是很難的。必須加大真空泵的抽氣速率，分子泵是最好的選擇。根據(jù)不同工藝的需要，反應(yīng)腔的工作壓力一般在10^-3-10^-2Torr之間，既要保證反應(yīng)腔的真空度，又要保證工藝氣體的壓力，確保反應(yīng)腔工作在真空穩(wěn)定的狀態(tài)下，這一直是真空泵廠家研究的課題。

⑵真空泵的選擇

真空泵是獲得真空的關(guān)鍵設(shè)備，至今還沒有一種泵能從大氣壓一直工作到接近超真空，必須兩種或以上的泵聯(lián)合使用，螺桿式干泵屬于容積泵類型，其工作循環(huán)可分為吸氣、壓縮和排氣三個(gè)過程，其優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，重心低，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，振動(dòng)小，噪音小。分子泵有牽引分子泵、渦輪分子泵和復(fù)合式分子泵等，分子泵的選型根據(jù)刻蝕反應(yīng)腔壓力和容積的不同而不同。

⑶真空閥門的選配

選擇鐘擺閥是為了配合分子泵大口徑尺寸的需要，鐘擺閥的開度大反應(yīng)腔的壓力就減小，但是當(dāng)開度大到一定程度時(shí)，由于泵的抽速有限，反應(yīng)腔的真空就被限制住了，真空壓力就不能繼續(xù)減小。所以要選擇鐘擺閥適合的工作開度，以滿足刻蝕工藝工作壓力的要求。

⑷真空計(jì)和真空檢測(cè)開關(guān)

真空計(jì)能時(shí)刻監(jiān)控反應(yīng)腔和管路的壓力，在反應(yīng)腔和管路上設(shè)置真空計(jì)，當(dāng)真空度達(dá)到一定值時(shí)，開啟或關(guān)閉真空閥門。真空計(jì)的分類主要有兩種方法：①按真計(jì)讀數(shù)的刻度方法進(jìn)行分類，即絕對(duì)真空計(jì)和相對(duì)真空計(jì)；②按真空計(jì)測(cè)量原理進(jìn)行分類，即直接測(cè)量真空計(jì)和間接測(cè)量真空計(jì)。薄膜式電容真空計(jì)是間接測(cè)量的絕對(duì)真空計(jì)，由于具有性能穩(wěn)定，重復(fù)性好，而且其響應(yīng)速度快，抗過載能力強(qiáng)，結(jié)構(gòu)牢固，使用方便的特點(diǎn)，因此被業(yè)界廣泛應(yīng)用。為了安全考慮，真空管路必須設(shè)置大氣真空開關(guān)，當(dāng)壓力值達(dá)到一個(gè)大氣壓時(shí)真空開關(guān)自動(dòng)打開排氣，保護(hù)反應(yīng)腔和管路系統(tǒng)的真空儀器。

⑸連接管

真空系統(tǒng)最重要的性能參數(shù)是其所能獲得的極限真空度和對(duì)反應(yīng)腔的有效抽速，真空系統(tǒng)的極限真空度是指在沒有外加負(fù)荷的情況下，經(jīng)過足夠長(zhǎng)時(shí)間的抽氣后，系統(tǒng)所能達(dá)的最低壓力。

進(jìn)口真空泵廠家表示任何真空系統(tǒng)絕對(duì)不漏的現(xiàn)象是不可能的，所以真空管路上需要設(shè)置檢漏口，方便進(jìn)行真空檢漏。