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蒸發(fā)鍍膜設備是制作光學薄膜的主要手段。隨著光學薄膜的發(fā)展，傳統(tǒng)的電阻蒸發(fā)鍍膜設備性能漸趨不能滿足要求，為此，東莞市普諾克真空科技有限公司對鍍膜設備的設計，即鍍膜室的布局及真空系統(tǒng)的配置進行了改進，以適應使用需求。電阻蒸發(fā)鍍膜設備應用廣泛，主要用于汽車反光網(wǎng)、燙鉆、工藝品、首飾、鞋帽、鐘表、燈具、裝飾、手機、DVD、MP3、PDA外殼、按鍵、化妝品外殼、玩具、圣誕禮品等行業(yè)。接下來小編將會為大家介紹下真空系統(tǒng)在蒸發(fā)鍍膜設備中的應用的相關知識，希望對各位有一定的幫助。

什么是電阻蒸發(fā)鍍膜設備？其結構和工作原理是什么？

電阻蒸發(fā)鍍膜設備是在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

它的結構可為立臥式雙開門結構，成膜速率快，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產生廢液、廢水，可避免對環(huán)境污染，屬環(huán)保設備。

它的工作原理是在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

蒸發(fā)鍍膜過程中，從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線運動，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內，當氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時，這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線飛行，否則，就會產生碰撞而改變運動方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率，把真空室內抽成高真空是必要的。

本文主要概述真空系統(tǒng)在蒸發(fā)鍍膜設備中的應用是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質，使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術。蒸鍍是PVD技術中發(fā)展最早，應用較為廣泛的鍍膜技術，盡管后來發(fā)展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸發(fā)鍍優(yōu)越，但真空蒸發(fā)鍍膜技術仍有許多優(yōu)點，如設備與工藝相對比較簡單，可沉積非常純凈的膜層等等，因此，真空蒸發(fā)鍍膜仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來由于電子轟擊蒸發(fā)，高頻感應蒸發(fā)以及激光蒸發(fā)等技術在蒸發(fā)鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技術更趨完善。